Mechanism of Reactive Ion Etching of 6H-SiC in CHF3/O2 Gas Mixtures

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G. Pensl, H. Morkoç, B. Monemar and E. Janzén

页数:

825-828

引用:

N. Sieber et al., "Mechanism of Reactive Ion Etching of 6H-SiC in CHF3/O2 Gas Mixtures", Materials Science Forum, Vols. 264-268, pp. 825-828, 1998

上线时间:

February 1998

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价格:

$38.00

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